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曝光機是20世紀60年初掃描電子顯微鏡基礎發展而來的一種新光刻技術 ,在70年代后廣泛應用于半導體電路板生產制造。曝光機即電子串曝光機,是集電子光學、機械、真空、電氣、計算機技術等于一體的復雜的半導體加工設備。

曝光機基本工作原理:

在計算機的控制下,利用聚焦電子束對有機聚合物(通常稱為電子抗蝕劑或光刻膠)進行曝光,受電子束輻照后的光刻膠,其物理化學性質發生變化,在一定的溶劑中形成良溶或非良溶區域,從而在抗蝕劑上形成精細圖形.根據電路板的線路的粗細來決定上下光源的曝光能量,能量不足電路板無法曝光,要是能量過高電路板就會過曝,所以在曝光電路板時,必須先測試電路板所需的能量,從而進行電路板的曝光生產。

四元數研發的視覺阻焊曝光機伺服控制雙框單面曝光，單平臺升降控制上下框對位。我們可以通過控制0—10V的模擬電壓輸出來控制曝光燈的能量，在操作的時候可以直接通過輸入能量百分比來控制。可以單獨上框做板或者下框做板。

視覺阻焊曝光機特點：

1.高效率的視覺工控機和成熟的軟件保證機器流暢的使用。

2.采用四個千兆網口相機，在我們移動板或者菲林的時候搜索到的靶標保持相對靜止。

3.簡潔的操作界面保證操作工上手快。（界面可根據操作習慣修改）

4.全面的安全機制以及報警提示保證操作工的安全和可以快速的排除出現的問題。

深圳四元數致力于運動控制、圖像與視覺傳感等工業自動化技術的研發和應用，產品廣泛應用于印刷設備、模切設備、貼合設備、多軸數控設備、機械手、電子加工和檢測設備、激光加工設備、拋光機械生產自動化等工業控制領域。